场发射透射电镜（TEM）

场发射透射电镜TEM

1.形貌像测试我们会提供11张左右照片，形貌加高分辨提供17张左右，能谱点测两处位置，能谱面分布/能谱线扫提供一处位置。HAADF暗场像提供4-6张照片，一般/中心暗场像提供2-3张图片。

2.不需要形貌像的测试，普通样品加收150元基础上机费用，磁性样品300元基础上机费。

3.对于碳量子点/银簇/铜簇等粒径小于5nm的量子点样品，形貌像是必选的。如未发现量子点，收取100元基础上机费用。

4.含Fe、Co、Ni、Mn等磁性元素样品，请务必随寄粉末样品，以验证磁性强弱。否则，可能均视为磁性样品来制样及拍摄。

5.纳米材料制样默认的支持膜为铜材质超薄碳支持膜，支持膜的主要成分为Cu/C/O/H,如做能谱表征需要避开Cu元素的干扰，请选择非铜材质支持膜。

6.零维纳米材料和三维纳米材料（如量子点/纳米颗粒）一般都是使用超薄碳支持膜，一维纳米材料和二维纳米材料（如纳米线/石墨烯）一般使用带孔的微栅支持膜，如果只拍形貌像介意背景上有孔，请注明使用普通支持膜，清晰度可能会不高。

7.选区电子衍射测试对于纳米材料来说晶粒比较小，无法踩正带轴，选择普通电子衍射测试即可；对于块体样品我们可提供踩正带轴的服务，收费为150元/位置，请说明针对哪些物相采正带轴。

8.块体材料的制样费包含机械减薄和离子减薄两部分。针对机械减薄，材料长和宽≥3mm且厚度≤100um时，无机械减薄费用；当材料尺寸不满足此尺寸要求时，请勾选相对应的机械减薄费用。对于离子减薄制样中的常规韧性材料指Al/Cu/Fe等金属；脆性材料指陶瓷材料/粉末烧结的脆性材料/高熵合金/甩带材料/非晶材料等，如NdFeB、BaTiO3等；软硬相间的材料指由两种硬度差别比较大的金属组成的合金如WCu合金,TiAl, Ni3Al等；易氧化的材料指Mg Zn Sn等金属及其合金；超硬材料指硬度大于SiC的各种材料，如Al2O3, MgO, SiO2, SiC, Si3N4等。

9.针对离子减薄样品，由于样品本身情况造成的拍摄不成功，制样费和基本上机费（普通样品200元；磁性样品300元）正常收取。（例：金属样品析出相/特定物质分布不均或数量特别少而导致的拍摄不成功）。

10.对于样品的磁性及疏松情况和颗粒之间结合力请仔细确认，如磁性脆性的NdFeB，无压烧结的陶瓷样品等。否则因隐瞒样品信息导致仪器损坏，您将承担全部赔偿责任。

11.检测周期：5个工作日（默认）;10个工作日（减薄制样+测试）；超薄切片10个工作日。若样品特殊（非常规块体）或数量较多（≥5），检测周期可能会有所延长，具体可询问销售人员。

12.如因仪器损坏等不可抗力造成检测周期延误的，我们会第一时间通知您而无须承担检测周期延误的责任。

13.生物样本请优先选择生物低电压透射电镜进行测试，如必须打能谱或看高分辨再选择场发射电镜。